台积电美国厂良率超中国台湾工厂：但成本高出30%

12月30日消息，台积据媒体报道，电美台积电在美国亚利桑那州的国厂国台高出工厂良率已超越中国台湾的同级厂房。

该工厂将于2025年下半年开始量产4nm工艺，良率苹果、超中厂但成本NVIDIA、湾工AMD 和高通等客户将成为主要客户。台积

台积电美国分部总裁卡希迪（Rick Cassidy）表示，电美亚利桑那州凤凰城的国厂国台高出第一座晶圆厂良率比中国台湾高出4%，良率提升意味着生产效率提高，良率有助于承担先进芯片的超中厂但成本昂贵制造成本。

然而还有消息指出，湾工台积电在亚利桑那州的台积生产成本将比直接从台湾采购高出约30%，主要原因是电美美国缺乏稳定制程良率的材料，以及半导体供应链的国厂国台高出短缺。

这一成本差异可能会使得苹果、NVIDIA、AMD和高通等主要客户需要支付更大的金额，最终可能反映在消费产品的定价上。

台积电亚利桑那州工厂的第一阶段计划生产4纳米晶圆，而第二阶段计划在2028年量产2纳米晶圆。

(责任编辑：焦点)